高精度 30kV 电子束曝光机


电子束曝光机工作原理是利用聚焦电子束,通过直写曝光,在晶片上获得图形化结构,其特点是分辨率极高、图形产生与修改容易,是高精密微纳加工与芯片制造的核心装备。本项目突破了电子光学系统、电子束矢量扫描发生器、激光干涉样品台等关键技术,研发出30kV电子束曝光机,在量子科学与工程、芯片研发与制造等前沿科技研究中不可或缺。

  • 束斑尺寸优于5nm

  • 加工线宽优于10nm

  • 写场拼接及图形套刻精度优于50nm