平台建设
打造“专业—产业”耦合的京津冀协同创新共同体，北京本部按照“专业”维度建设研究平台，组建高精尖的工程技术团队，着力研发原始技术和培育新兴产业。天津、河北按照“产业”维度建设创新平台，以本部专业力量为支撑，多学科协同攻关全产业链关键技术和实施产业化，促进产业升级。
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平台建设
打造“专业—产业”耦合的京津冀协同创新共同体，北京本部按照“专业”维度建设研究平台，组建高精尖的工程技术团队，着力研发原始技术和培育新兴产业。天津、河北按照“产业”维度建设创新平台，以本部专业力量为支撑，多学科协同攻关全产业链关键技术和实施产业化，促进产业升级。
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人才队伍
中心按照专兼结合的方式，围绕创新链组织人才链，形成学术合伙人引领方向、自建工程技术团队关键支撑、联合工程技术团队有机协同的综合性科研团队
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科研成果
中心以从科学到技术转化为核心功能，以重大基础研究成果产业化、发展原始创新为核心使命，从高校及国家实验室的基础研究成果中遴选出有产业化潜力的核心技术，以大规模生产和大范围应用为目标，定制化设计发展模式、精准化配置团队及资源，加速研发和产业化。
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人才培养
中心与全球一流大学联合实施“创新菁英计划”，采取“双课堂、双导师、双身份、双考核”模式，专业化培养创新创业研究生，形成在创新中培养人才、在人才培养中再创新的复合效应。
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产业发展
中心通过技术入股新组建创业企业，或者将技术注入已有企业等形式培育新兴产业，将科技势能转化为经济动能。
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招贤纳士
京津冀国家技术创新中心面向海内外诚聘英才，并提供良好的工作条件、优厚的薪酬待遇和有力的支撑保障。我们热诚期待各方优秀人才的加入,携手各个领域放眼未来、共创辉煌。 简历投递：hr@jingjinji.cn
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首页 / 科研成果 / 集成电路与芯片

芯片蚀刻清洗用三氟化氯产业化技术


运用化学反应定比计量、气液平衡等原理，全球首创“一步法”合成新一代绿色环保型、具有极高的清洗效率的半导体芯片蚀刻清洗剂ClF3技术，颠覆了传统的ClF3“三步法”合成工艺，满足芯片尤其是“14 nm及更高节点”的市场需求，实现自主可控，解决国内芯片关键材料“卡脖子”难题”。

  • 首创一步法合成高纯ClF3成套技术，制备出ClF3纯度达99.995%，HF含量<50 ppmv，金属离子杂质<0.001 ppmw的产品，产品质量高出国外1.5个数量级，居国际领先

  • 开发出全球首台高性能耐腐蚀（耐氟氯等化合物）气相色谱仪，实现氟氯化合物、腐蚀性杂质全组分精准分离、高效定量分析

  • 该技术目前正在进行工程化验证，ClF3纯度99.99%的产品已经产业化，并实现给中芯国际和长鑫存储等代表性企业稳定供货。



工艺流程示意图及成果